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国产光刻机技术最新突破(最新消息,国产光刻机技术有了突破性的进展)

知识财经 知识财经 更新时间:2024-03-09 02:14

最新消息,国产光刻机技术有了突破性的进展,赶超西方指日可待!

老规矩,先说下目前科技界的新消息。

1、华为鸿蒙进展迅速,升级用户突破1000万,并且华为HMS生态已经成为全球第三大移动应用生态!

2、苹果公司正在和宁德时代、比亚迪洽谈电池业务,为自己造车做准备,你会支持苹果吗?

3、阿里平头哥半导体推出3款基于RISC-V开发板,探索芯片架构新领域,国产芯片入局企业越来越多。

4、科益虹源在13.5nm极紫外EUVL光源上取得了突破,目前光刻机的光源主要是老美的技术,所以这下子可算是避开了这个恶心国的技术。

5、小米成立的长江基金目前已经投资了73家半导体公司,投资额大概在120亿,据说近期还会加大投资力度,每笔1000万以上。

目前来看,国产光刻机进步非常大。大家可能会担心我们芯片会被卡脖子,其实我们国家很多应用方面都用不到7nm制程以下的芯片,我们自己都能够生产90nm的芯片,所以大家不必太过担心。

据媒体报道,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂,但是差距已经大大缩小。

我相信,国产光刻机的高端芯片在小米、华为、微电子等科技实力强悍的企业面前终将被攻克,中国加油,小米华为加油!

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